對于理想的低分子量內用型抗靜電劑,其設計應滿足以下多方面要求:
高熱穩定性:在聚合物加工的高溫環境(100~300℃)下保持穩定,不分解。
良好相容性:與樹脂相容性佳,避免噴霜現象,不影響制品的印刷和粘接性能。
易加工性:易于混合,不干擾制品的正常加工流程。
助劑兼容性:能與其他添加劑和諧共存,無相互干擾作用。
性能保護:不損害制品的穩定性和物理機械性能。
安全性與環保:無毒或低毒,對皮膚友好,不污染環境。
成本效益:在保證性能的前提下,價格應盡可能低廉。
ILSML ?團隊專注高端光學透明抗靜電劑研發、生產,以不改變透明性和較低添加量為開發目標,使膠層及其組件改性達到長效至半永久透明防靜電, 鑒于該領域無寬適用面產品的現狀,為滿足用戶不同場景對不同抗靜電性能的需求,通過機理研究結合實驗驗證的開發模式,持續不斷推出新品和解 決方案,如 5~8 次方、UV 適用、熱固適用、弱極性相容、無鹵/氟、低撕膜電壓等,在保護膜、離型膜、偏光片等光學膜領域得到充分驗證與使用, 并持續逐步豐富和更新專用產品品類來提升產品適配寬度與成功率。